12月2日，美國商務(wù)部工業(yè)和安全局（BIS）更新了《出口管理條例》（EAR），將140個中國半導體行業(yè)相關(guān)實體納入“實體清單”，限制中國在人工智能和先進半導體領(lǐng)域的發(fā)展。這是美國近三年來第三次對中國半導體行業(yè)實施限制措施。

被列入“實體清單”的企業(yè)，將面臨無法采購美國生產(chǎn)的電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）的困境。而ICP-MS在半導體產(chǎn)業(yè)的多個核心環(huán)節(jié)中扮演著至關(guān)重要的角色，它廣泛應(yīng)用于材料檢測、制程控制、性能測試、質(zhì)量控制和研發(fā)支持等方面，是保障半導體產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵設(shè)備。

半導體器件的制造過程中對污染源的管理極為嚴格，特別是對晶圓、電子濕化學品、電子特氣及靶材等核心原材料中的無機元素雜質(zhì)含量需進行精密控制。因為即使是非常微量的雜質(zhì)，也可能導致介質(zhì)擊穿電壓降低，進而影響成品器件的電氣性能，造成器件缺陷。為確保生產(chǎn)材料中的金屬污染物濃度嚴格符合限制要求，在半導體器件的生產(chǎn)過程中，必須全程使用ICP-MS技術(shù)對無機元素雜質(zhì)進行精確分析。

萊伯泰科是早以半導體行業(yè)為導向研發(fā)生產(chǎn)ICP-MS的國產(chǎn)儀器企業(yè)之一。2021年5月，萊伯泰科隆重發(fā)布LabMS 3000單四極桿ICP-MS，劍指半導體行業(yè)，并于次年在國內(nèi)半導體頭部企業(yè)成功通過驗證，引發(fā)了業(yè)界的廣泛關(guān)注和熱烈討論。2023年3月，萊伯泰科再次發(fā)力，推出了LabMS 5000串聯(lián)四極桿ICP-MS/MS，進一步提升了分析精度，降低了檢出限，并在國內(nèi)率先通過了SEMI S2認證，以更加卓越的性能深層次進軍半導體行業(yè)。

萊伯泰科宣布進軍半導體行業(yè)的時候，外界普遍持懷疑態(tài)度，認為這是一個很難成功的事情。因為半導體行業(yè)樣品中的雜質(zhì)元素含量通常處于ppt及亞ppt級別，使用ICP-MS分析時，等離子產(chǎn)生的氬離子以及待測樣品基質(zhì)均會帶來嚴重的質(zhì)譜干擾，影響測試精度及準確度。萊伯泰科持續(xù)攻堅，成功攻克了冷等離子技術(shù)與串聯(lián)四極桿技術(shù)，并進一步優(yōu)化了儀器的空白背景及可靠性，從而滿足了半導體行業(yè)對樣品中痕量元素分析的高標準需求，以及集成電路制造企業(yè)在安全規(guī)范與長期穩(wěn)定運行方面的嚴苛要求。正是這份堅持與執(zhí)著，萊伯泰科陸續(xù)成功推出LabMS 3000和LabMS 5000，在半導體行業(yè)國產(chǎn)替代的道路上穩(wěn)步前行。從初的質(zhì)疑到如今的認可，萊伯泰科用實際行動詮釋了“難，并不意味著不可能”。

如今，萊伯泰科自主研發(fā)的ICP-MS已成功進入我國多家芯片、光伏和面板頭部生產(chǎn)企業(yè)，產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于硅材料、電子濕化學品、光刻膠、高純PFA、CMP拋光液以及化合物半導體等多個半導體生產(chǎn)環(huán)節(jié)，為客戶提供了精準、高效的解決方案。這些成績的取得，不僅是對其技術(shù)實力的好證明，更是對國產(chǎn)替代戰(zhàn)略的積極響應(yīng)和實踐。即使面對外部限制，也能保持穩(wěn)定發(fā)展。

萊伯泰科ICP-MS已進入的半導體行業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域

萊伯泰科憑借深厚的技術(shù)積累與產(chǎn)品優(yōu)勢，精心為半導體行業(yè)量身定制了《萊伯泰科半導體行業(yè)檢測綜合解決方案》。該方案不僅涵蓋了先進的ICP-MS技術(shù)，還融入了廣受行業(yè)好評的無機元素樣品前處理技術(shù)及超凈實驗室建設(shè)工程服務(wù)。

這場科技冷戰(zhàn)的序幕已經(jīng)拉開，未來的走向充滿了不確定性。面對這樣的挑戰(zhàn)，科學儀器行業(yè)也將面臨重大挑戰(zhàn)，國產(chǎn)儀器的自主發(fā)展變得尤為重要。在外部環(huán)境的壓力下，行業(yè)需要加大力度進行自主研發(fā)和技術(shù)創(chuàng)新，加快實現(xiàn)國產(chǎn)化替代，以增強自身的國際競爭力。