近期，“2023年度中國(guó)檢驗(yàn)檢測(cè)學(xué)會(huì)科學(xué)技術(shù)獎(jiǎng)”獲獎(jiǎng)名單公布，北京萊伯泰科儀器股份有限公司（簡(jiǎn)稱“萊伯泰科”）憑借其《硅片表面金屬離子國(guó)產(chǎn)檢測(cè)儀器首創(chuàng)項(xiàng)目》榮獲科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)。

該獎(jiǎng)項(xiàng)由中國(guó)檢驗(yàn)檢測(cè)學(xué)會(huì)設(shè)立，旨在表彰那些在檢驗(yàn)檢測(cè)科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域或相關(guān)領(lǐng)域，通過技術(shù)發(fā)明、科技進(jìn)步、國(guó)際科技合作等活動(dòng)，對(duì)推動(dòng)檢驗(yàn)檢測(cè)科學(xué)發(fā)展做出顯著貢獻(xiàn)的組織和個(gè)人。

萊伯泰科于2021年5月和2023年3月分別推出了自主研發(fā)的LabMS 3000電感耦合等離子體質(zhì)譜儀和LabMS 5000電感耦合等離子體串聯(lián)質(zhì)譜儀，其技術(shù)成熟度與產(chǎn)品可靠性已經(jīng)滿足國(guó)內(nèi)集成電路制造企業(yè)對(duì)28nm以上制程硅片表面金屬離子檢測(cè)的需求，并已成功應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓制造企業(yè)，在半導(dǎo)體行業(yè)有了巨大突破。

萊伯泰科此次獲獎(jiǎng)的《硅片表面金屬離子國(guó)產(chǎn)檢測(cè)儀器首創(chuàng)項(xiàng)目》成功解決了國(guó)產(chǎn)儀器在此領(lǐng)域的技術(shù)空白，有望打破國(guó)外技術(shù)的長(zhǎng)期壟斷。該項(xiàng)目依托先進(jìn)的ICP離子源技術(shù)、加強(qiáng)的離子傳輸系統(tǒng)和基于CAN總線的電控系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了儀器的高效穩(wěn)定運(yùn)行及精準(zhǔn)檢測(cè)，滿足了半導(dǎo)體硅片行業(yè)對(duì)極低檢出限的嚴(yán)苛要求。

憑借在電感耦合等離子體質(zhì)譜技術(shù)領(lǐng)域的豐富創(chuàng)新經(jīng)驗(yàn)，萊伯泰科一直致力于為半導(dǎo)體行業(yè)提供更加精準(zhǔn)、高效的解決方案。今天的榮譽(yù)標(biāo)志著萊伯泰科在科技創(chuàng)新道路上達(dá)到了新的里程碑。未來，萊伯泰科將繼續(xù)專注于高端科研設(shè)備的研發(fā)，努力推動(dòng)科學(xué)儀器技術(shù)的持續(xù)進(jìn)步，為行業(yè)的發(fā)展貢獻(xiàn)自己的智慧和力量。

電感耦合等離子體質(zhì)譜儀LabMS 3000 ICP-MS

l   強(qiáng)大：集成型高基質(zhì)進(jìn)樣系統(tǒng)，支持在線氬氣稀釋和有機(jī)樣品加氧除碳，從而減少樣品前處理時(shí)間并避免此過程中引入的各種污染

l    精準(zhǔn)：新一代碰撞反應(yīng)池技術(shù)，消除棘手的多原子離子和雙電荷離子干擾，提升數(shù)據(jù)質(zhì)量

l   安全：具有多重安全防控以及定時(shí)維護(hù)日志，確保儀器在安全、可靠的狀態(tài)下運(yùn)行，盡量減少計(jì)劃外的停機(jī)和提供安全保護(hù)

l   智能：HiMass智能工作站，中英文語言實(shí)時(shí)切換，支持接入實(shí)驗(yàn)室管理系統(tǒng)和定制報(bào)告模版，向?qū)皆O(shè)計(jì)更符合中國(guó)人操作習(xí)慣

l      高效：與LabTech前處理設(shè)備無縫銜接實(shí)現(xiàn)一站式元素分析解決方案，使元素分析更高效、更準(zhǔn)確、更安全

LabMS 5000 電感耦合等離子體串聯(lián)質(zhì)譜儀（ICP-MS/MS）

l    精準(zhǔn)：MS/MS模式實(shí)現(xiàn)受控且可靠的干擾去除，精準(zhǔn)去除質(zhì)量干擾離子，從而獲得更低的檢測(cè)限和準(zhǔn)確的超痕量分析結(jié)果。

l    穩(wěn)定：采用工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)27.12MHz 全固態(tài)RF發(fā)生器，具有高穩(wěn)定性及可靠性；優(yōu)異的離子傳輸系統(tǒng)設(shè)計(jì)即使在MS/MS模式下也具有良好的檢測(cè)穩(wěn)定性。

l    可靠：通過 SEMI S2 認(rèn)證，多達(dá)十重安全防護(hù)配置，帶來全面可靠的安全防護(hù)，保證儀器長(zhǎng)時(shí)間安全可靠運(yùn)行。

l   強(qiáng)大：全基體進(jìn)樣系統(tǒng)結(jié)合接口設(shè)計(jì)及加強(qiáng)離子傳輸系統(tǒng)，帶來強(qiáng)大的基體耐受性，即使高基體直接進(jìn)樣也可有效降低信號(hào)漂移。

l    易用：HiMass智能工作站，一鍵式，向?qū)?、模塊化設(shè)計(jì)，界面簡(jiǎn)潔直觀，易學(xué)易用，提高工作效率。